深圳纳宏光电技术有限公司（nmot）专业生产的窄带滤光片?采用全介质硬膜镀膜的技术和介质干涉的原理，在凸显窄带滤光片特性的基础上，光学性能与基片厚度无关，纳宏光电生产的窄带滤光片更便于内置仪器成像系统里面。使之光学性能得以提升和有效应用，采用特殊的光学材料基底，解决传统意义上吸收型合成玻璃易发雾及光学性能不稳定等问题，产品依据客户的指标需求予以生产制作。1064nm窄带滤光片技术参数：
中心波长：1064+/-2nm
入射角 ：0°
半峰值带宽 ：8nm
峰值透过率 ：>85%( 按客户需求）
产品尺寸 ：3mm-80mm( 可订制 )
截止波长 ：200nm-1100nm( 按客户需求）
截止深度 ：>od4-od6 uv-nir
产品材质 ：光学级别类玻璃（ k9,bk7,b270,d263t,jgs1,颜色玻璃,浮法玻璃等 )
表面光洁度 ：国标三级，美军标60-40
1064nm窄带滤光片应用领域：生化仪、光学测量仪器、酶标仪、生物识别、红外医疗仪器、荧光分析仪、医疗检测设备等。深圳市纳宏光电技术有限公司主要生产的窄带滤光片作为滤光和选择谱线的器件，在激光技术，医疗检测设备，卫星遥感探测，生物识别，荧光分析仪以及目前正在飞速发展的光通讯技术中有着广泛的应用。窄带滤光片镀制难度高，成品率低，成本高。纳宏光电窄带滤光片的间隔层干涉级次相对较低，可以极大降低镀制难度和成本。纳宏光电主要研究了1064nm窄带滤光片的设计、制备技术及相关测试技术，要求将1064nm的激光高透过，使紫外光、可见光以及近红外的光全部截止。解决的关键问题是通带的半宽度，制备工艺的稳定性和膜厚监控的准确性。根据材料的特性及薄膜的沉积条件选择合适的材料进行膜系设计。在制备过程中采用光控法与晶控法相结合的方法监控膜厚，利用离子辅助沉积系统改善成膜结构，提高膜层牢固性。根据镀膜条件对成膜质量的影响，优化了工艺参数。
1064nm窄带滤光片
◆ 典型半带宽可达5nm,10nm和50nm等,客户特殊要求的滤光片也可订制。
◆ 截止带可由全介质膜层构造,也可由颜色玻璃完成，半带宽可从几埃至几百纳米，全介质窄带滤光片或金属介质镀制的诱导透射滤光片，尺寸从一毫米到上百毫米，高耐久性和最少的基片数。
1064nm窄带滤光片
1064nm窄带滤光片的特点：
1064nm窄带滤光片具有波长定位准确、透过高、截止深、温飘小、耐用性好、光洁度好等特点。
技术参数：
材料：k9玻璃,浮法玻璃或石英玻璃
尺寸：ф10，ф12.7，ф15，ф25.4mmф55mm
入射角：0°
直径:10mm +0.0/-0.1mm
表面面型：1.5波长-2.5波长@632.8nm
光洁度：4级
中心波长：1064±2nm(也可根据客户要求定制，目前纳宏光电可做250nm~1500nm任意波长)
半带宽：8 +/-2nm
半高宽:10nm/15nm/20nm/30nm
峰值透过率: t>85%
截止深度: t<10-4@x射线-1200nm
通光口径(mm): 根据客户要求定制
耐用性：90%相对湿度,65℃温度下250小时
70℃~-40℃温度下,循环测试10小时
其它性能要求: 根据客户要求而定制。
使用注意事项：
1.使用时请戴好手指套，不要用手指直接触碰镜片表面，以免残留的手指影响镜片通光效果。
2.如镜片表面脏时，可用无尘布或无尘纸沾上酒精擦拭镜片表面。不可用表面很粗糙的布或纸或沾水擦拭，否则会损坏镜片表面。
3.检查光路各调整光轴时，请一定做好相应的防护。
应用领域：窄带滤光片是在各类玻璃材质表面通过特殊的镀膜工艺而形成的光学元件，可以从入射光中选取任意所需求的波长，半峰值一般在5nm~50nm之间;窄带滤光片还可代替如光栅那样昂贵的分光器件，广泛应用于红外医疗仪器、生物识别、各类光谱测量、生化分析仪器以及光学实验和工业领域。

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